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ulvac-kiko 水晶振蕩式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200CRTM-9200作為CRTM-9100G的后繼機(jī)，繼承了前機(jī)型的功能和設(shè)計(jì)，維持了兼容性。優(yōu)秀的膜厚及成膜速率分辨能力（0.0022A），是實(shí)現(xiàn)了低速率蒸發(fā)控制和高精度的膜厚控制的水晶振蕩式成膜控制器。最多可同時(shí)控制4個(gè)蒸發(fā)源
產(chǎn)品型號：CRTM-9200廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2023-04-11訪 問 量：975
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ulvac-kiko 水晶振蕩式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200
ulvac-kiko 水晶振蕩式成膜器 成膜控制器 CRTM-9200
CRTM-9200作為CRTM-9100G的后繼機(jī)，繼承了前機(jī)型的功能和設(shè)計(jì)，維持了兼容性。
優(yōu)秀的膜厚及成膜速率分辨能力（0.0022A），是實(shí)現(xiàn)了低速率蒸發(fā)控制和高精度的膜厚控制的水晶振蕩式成膜控制器。
最多可同時(shí)控制4個(gè)蒸發(fā)源。
優(yōu)異的膜厚和速率分辨率（0.0022A）使其成為低速蒸發(fā)成膜控制的理想選擇。
可以同時(shí)控制4個(gè)蒸發(fā)源。 （添加選項(xiàng)時(shí)）
可實(shí)現(xiàn)多層膜厚控制，最多可達(dá)99層。
程序可以保存到USB中。
通過使用多層計(jì)算功能（MLC功能）對于在石英板上的多層成膜，可以精確地測量膜厚度。
蒸發(fā)時(shí)的膜厚及速率控制
采用特的測量方式，實(shí)現(xiàn)了高速測量和機(jī)體的小型化。
我們的產(chǎn)品陣容包括特的便攜式，自動(dòng)式和對應(yīng)真空環(huán)境的設(shè)備內(nèi)置式類型。
UNECS-Portable，測量部的重量只有2.2kg重量輕且緊湊，是易于攜帶的便攜式類型。
可用于真空設(shè)備現(xiàn)場驗(yàn)收試驗(yàn)，可以通過分離樣品臺直接放在樣品上進(jìn)行大尺寸樣品的測量。
高速測定：
獨(dú)的快照方法可實(shí)現(xiàn)高達(dá)20 ms的高速測量。
適用于可見光譜：
波長范圍可選標(biāo)準(zhǔn)類型（530nm至750nm）和可見光譜類型（380nm至760nm）。
緊湊型傳感器單元：
光發(fā)射和接收的傳感器僅由沒有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的光學(xué)部件組成，因此非常輕且緊湊，并且不需要定期維護(hù)。
豐富的產(chǎn)品陣容：
產(chǎn)品陣容應(yīng)用廣泛，包括如獨(dú)的便攜類型，手動(dòng)/自動(dòng)平臺類型，大型基板類型，以及支持大氣/真空環(huán)境的內(nèi)置類型。
透明或半透明薄膜（氧化膜，氮化膜，抗蝕劑，ITO等）的膜厚，折射率，消光系數(shù)的測量
| 波長范圍 | 530 ～ 750nm、380 ～ 760nm（選擇） | |
| 點(diǎn)徑 | Φ1mm、Φ0.3mm（選擇） | |
| 入射角度 | 70o固定 | |
| 膜厚再現(xiàn)性 | 1σ = 0.1ｎｍ | |
| 膜厚范圍 | 1nm ～ 2μｍ | |
| 測量時(shí)間 | 受光：20ms ～ 3000ms 演算：300ms | |
| 平臺 | 固定類型（Φ150mm以下、可拆卸） | |
| 控制PC | 筆記本類型（帶操作/分析軟件） | |
| 機(jī)器構(gòu)成 | 測量本體（帶固定臺）、控制器BOX、光源單元 操作PC（筆記本型）、使用說明書（CD） | |
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